清溢光电55nm相移掩膜版进入客户上线认证阶段

清溢光电宣布55nm PSM（相移掩膜版）产品已与客户签署保密协议、确认产品规格书并收到采购订单，产品已交货，目前进入客户上线认证阶段。该产品面向半导体芯片制造中对图形精度要求较高的关键光刻层，覆盖逻辑、存储、部分特色工艺及功率器件等场景。公告称，若顺利完成认证并实现规模化批量供货，将进一步丰富公司高端半导体掩膜产品矩阵并提升整体盈利能力。