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清溢光电55nm相移掩膜版进入客户上线认证阶段
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先了解这件事
AI 综述
2026年9月30日，清溢光电宣布其55nm PSM（相移掩膜版）产品研发取得重大进展，已与客户签署保密协议、确认产品规格书，并收到采购订单后完成交货，目前进入客户上线认证阶段。该产品主要面向半导体芯片制造中对图形精度要求较高的关键光刻层，覆盖逻辑、存储、部分特色工艺及功率器件等应用场景，可提升光刻分辨率与图形对比度。当日显示世界与显示汇先后报道此事，披露内容一致：均确认产品已完成交货并进入认证环节，均强调若顺利完成认证并实现规模化批量供货，将进一步完善公司高端半导体掩膜产品矩阵，提升半导体掩膜业务整体盈利能力。截至目前，这是清溢光电55nm PSM产品的最新公开进展，后续认证结果尚未披露。
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最新进展9月30日 22:04
55nm相移掩膜版已完成交货，正式进入客户上线认证阶段。报道时间线
沿着报道，了解事件的不同侧面。
9月30日
- 显示汇清溢光电55nm半导体相移掩膜版研发取得重大进展，已交货进入客户上线认证阶段
清溢光电公告称，其55nm PSM（相移掩膜版）产品已与客户签署保密协议并确认产品规格书，收到采购订单后已完成交货，目前进入客户上线认证阶段。PSM主要用于逻辑、存储、特色工艺及功率器件等高精密图形场景的光刻关键层，可提升光刻分辨率与图形对比度。若顺利完成认证并实现规模化批量供货，将进一步完善公司高端半导体掩膜产品矩阵，提升半导体掩膜业务整体盈利能力。
- 显示世界清溢光电55nm相移掩膜版进入客户上线认证阶段
清溢光电宣布55nm PSM（相移掩膜版）产品已与客户签署保密协议、确认产品规格书并收到采购订单，产品已交货，目前进入客户上线认证阶段。该产品面向半导体芯片制造中对图形精度要求较高的关键光刻层，覆盖逻辑、存储、部分特色工艺及功率器件等场景。公告称，若顺利完成认证并实现规模化批量供货，将进一步丰富公司高端半导体掩膜产品矩阵并提升整体盈利能力。