清溢光电55nm半导体相移掩膜版研发取得重大进展，已交货进入客户上线认证阶段

清溢光电公告称，其55nm PSM（相移掩膜版）产品已与客户签署保密协议并确认产品规格书，收到采购订单后已完成交货，目前进入客户上线认证阶段。PSM主要用于逻辑、存储、特色工艺及功率器件等高精密图形场景的光刻关键层，可提升光刻分辨率与图形对比度。若顺利完成认证并实现规模化批量供货，将进一步完善公司高端半导体掩膜产品矩阵，提升半导体掩膜业务整体盈利能力。