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尼康发布面向OLED量产的亚微米分辨率FX-6ASLH FPD光刻系统
Nikon launches a new sub-micron FPD lithography system optimized for OLED production
AI 导读
尼康开始接受FX-6ASLH FPD光刻系统订单，该设备支持6代线基板生产高分辨率OLED和LCD显示。FX-6ASLH采用UV-LED照明光学系统，在6代基板上的分辨率达到0.85 µm（L/S）和1.0 µm（C/H），套刻精度为±0.18 µm或更高，首批系统计划于2027年12月出货。
推荐理由
尼康公布FX-6ASLH的亚微米分辨率、套刻精度及量产适配规格，可用于比较新一代FPD光刻设备能力。
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